Deposição e caracterização de filmes fino de silício hidrogenado para fins eletrônicos (1999)
Tonello, Pedro Marcos Nocetti; Andrade, Adnei Melges de (Orientador) 
Assuntos: FILMES FINOS, SILÍCIO
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ABNT
TONELLO, Pedro Marcos Nocetti. Deposição e caracterização de filmes fino de silício hidrogenado para fins eletrônicos. 1999. Trabalho de Conclusão de Curso (Graduação) – EPUSP, São Paulo, 1999. Disponível em: https://bdta.abcd.usp.br/directbitstream/7169cafa-48f6-4044-910b-5f68991fa0f5/PedroMarcosNocettiTonello%20TF%20PMT.pdf. Acesso em: 30 abr. 2024.APA
Tonello, P. M. N. (1999). Deposição e caracterização de filmes fino de silício hidrogenado para fins eletrônicos (Trabalho de Conclusão de Curso (Graduação). EPUSP, São Paulo. Recuperado de https://bdta.abcd.usp.br/directbitstream/7169cafa-48f6-4044-910b-5f68991fa0f5/PedroMarcosNocettiTonello%20TF%20PMT.pdfNLM
Tonello PMN. Deposição e caracterização de filmes fino de silício hidrogenado para fins eletrônicos [Internet]. 1999 ;[citado 2024 abr. 30 ] Available from: https://bdta.abcd.usp.br/directbitstream/7169cafa-48f6-4044-910b-5f68991fa0f5/PedroMarcosNocettiTonello%20TF%20PMT.pdfVancouver
Tonello PMN. Deposição e caracterização de filmes fino de silício hidrogenado para fins eletrônicos [Internet]. 1999 ;[citado 2024 abr. 30 ] Available from: https://bdta.abcd.usp.br/directbitstream/7169cafa-48f6-4044-910b-5f68991fa0f5/PedroMarcosNocettiTonello%20TF%20PMT.pdf
